电子束光刻胶
- S1800 系列：
厚度范围：
0.4-2.7um
线宽/光源：
0.5um/g-Line
工艺与特点：
常用，粘附性好，可搭配LOR/PMGI系列做小线宽双层胶lift-off工艺, MIF显影液和MIC
型号：
S1805 G2/S1813 G2/S1818 G2
- SPR955系列：
厚度范围：
0.7-3.5um
线宽/光源：
0.35um/i-Line
工艺与特点：
常用，粘附性好,选择性电镀，也可以用于深硅刻蚀,可搭配做lift-off工艺
型号：
SPR 955-0.7 /SPR 955-0.9/ SPR 955-1.1/ SPR 955-1.4/SPR 955-1.8/SPR 955-2.1
- SPR220系列：
厚度范围：
1-10um
线宽/光源：
1um/i-Line
工艺与特点：
常用，可用于干法/湿法刻蚀、电镀等工艺, MIF显影液和MIC
型号：
SPR 220-3.0 /SPR220-4.5/ SPR220-7.0
- RDP-75 系列：
厚度范围：
0.8-1.2um
线宽/光源：
0.35um/i-Line
工艺与特点：
离子注入掩膜胶，低驻波效应、垂直度好
型号：
RDP-75
- AZ MIR701/703 系列：
厚度范围：
0.7-1.4um
线宽/光源：
0.5um
工艺与特点：
高分辨率正胶，常用，粘附性好
型号：
AZ MIR701/703
- AZ 4620 系列：
厚度范围：
3-60um
工艺与特点：
正性厚胶，可用于干法/湿法刻蚀、电镀等工艺
型号：
AZ 4620
- AZ5214E 系列：
厚度范围：
1-1.6um
工艺与特点：
薄胶，可搭配LOR/PMGI做双层胶lift-off工艺
型号：
AZ5214E
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