型号

主要成分

用途

MIBK/IPA 1：3

异丙醇20%-80%，4-甲基-2-戊酮 20%-80%

PMMA电子束光刻胶用显影液

SU-8 Developer

2-甲氧基-1-丙醇乙酸酯 <0.5%,丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA） >99.5%

SU-8显影液，（PGMEA、IPA交替）

RD6

2-甲氧基-1-丙醇乙酸酯 <0.5%,丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA） >99.5%

水性无金属离子显影液，适用于NR1，NR5，NR7，NR9和PR1和PC4（Futurrex）

ZED-N50

/加仑瓶

ZEP520A电子束光刻胶显影液

ZED-N60

/加仑瓶

ZEP530A电子束光刻胶显影液

MF-319

水>95%,表面活性剂<1%,四甲基氢氧化铵2.2%

S1400，S1800专用无金属离子显影液

WLT-T238

四甲基氢氧化铵(TMAH) 2.38%

正胶显影液

WLT-N995

乙酸正丁酯(nBA)>99.5%

负胶显影液

WLT-P999

丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA） ≥99.9%

SU-8显影液，（PGMEA、IPA交替）

型号

主要成分

用途

Resist Remover

二甲基亚砜20%-80%

氨基衍生物20%-80%

Futurrex配套

Remover PG

N-甲基吡咯烷酮

PMGI、PMMA、SU8和其它抗蚀剂膜等

WLT-NMP995

N-甲基吡咯烷酮 ≥99.5%

可去除光刻胶和其它有机残留，lift-off剥离、抗刻蚀的稀释剂等