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光刻胶压印胶

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 负胶 


  •  SU-8 2000 系列:

  • 厚度范围:

    0.5-650um

    线宽/光源:

    i-line(E-beam,X-ray)

    工艺与特点:

    透明度高、垂直性好,可用于绝缘层、微流控等工艺

    型号:

    SU-8 2000.5/SU-8 2000.2/SU-8 2007/SU-8 2010/SU-8 2015/SU-8 2025/SU-8 2035/SU-8 2050/SU-8 2075/SU-8 2150

  • SU-8 3000 系列:

  • 厚度范围:

    5-100um

    线宽/光源:

    i-line(E-beam,X-ray)

    工艺与特点:

    更好的基底粘附力,减少工艺内应力

    型号:

    SU-8 3005/SU-8 3010/SU-8 3025/SU-8 3035/SU-8 3050

  • RDN-91 系列:

  • 厚度范围:

    40-130um(单层)可以涂两层

    线宽/光源:

    i-line

    工艺与特点:

    常用,可用于干法/湿法刻蚀、电镀等工艺, MIF显影液和MIC

    型号:

    SPR 220-3.0 /SPR220-4.5/ SPR220-7.0

  • RDP-75 系列:

    厚度范围:

    0.8-1.2um

    线宽/光源:

    0.35um/i-Line

    工艺与特点:

    封装负性胶,高分辨垂直形貌

    型号:

    RDN-91

  • KMPR 1000 系列:

  • 厚度范围:

    4-110um

    线宽/光源:

    i-line

    工艺与特点:

    厚胶,高深宽比,侧壁垂直,金属粘附性好,显影液:TMAH

    型号:

    KMPR 1005/KMPR 1010/KMPR 1015/KMPR 1025/KMPR 1035


  • *其它型号欢迎咨询
















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