型号

厚度范围

极限线宽

工艺与特点

型号

PMMA/MMA

50-5000nm

<100nm,20nm

正性电子束光刻胶

495K PMMA1-10/

950K PMMA 1-10

HSQ系列

30-950nm

极限可达几个nm

负性电子束光刻胶

XR-1541-002/

XR-1541-004/XR-1541-006/fox15/fox16/fox24/

fox25

EM PMMA

30-2000nm

/

电子束光刻，纳米压印及二维材料转移

950K 0.1-1/495K 0.1-1/120K 0.1-1.2/35K 0.1-1.2

RDNE-10-1200

105nm、590nm、1um

<20nm

负性电子束光刻胶，对标XR1541以及fox，睡醒显影液

RDNE-10-1200

RDNE-10-1500

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正性电子束光刻胶

RDNE-10-1500

SML系列

50-5000nm

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不需要HMDS预处理，高深宽比图形

SML50/SML100/SML300/

SML600/SML1000/

SML2000

ZEP520A

500nm@

2000rpm

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非化学增幅型负性电子束光刻胶，显影液ZED-N50

ZEP520A

ZEP530A

200nm@

2000rpm

/

非化学增幅型正性电子束光刻胶，显影液ZED-N60

ZEP530A-6