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光刻配套试剂涂层

📍首页半导体材料光刻配套试剂涂层

 平坦化涂层材料



  • 极好的平坦化性能,适用于光刻胶涂布机。

  • 主要作用:

  • 1)平坦化涂层:作为电介质用于凹蚀制程的平坦化
  • 2)机械保护涂层材料:在切割制程中用于关键部件的保护
  • 3)临时的粘结层:作为临时的粘结材料用于后道的研磨及背面处理,且容易去除

        在一些方面省去了化学机械抛光、抑制凹蚀制程中的微型加载效应、消除了切割制程中薄膜的剥离和破裂、晶圆研磨和切割后易于在RD3 和RD6显影液中去除。


  • 部分规格型号:
  • 材料型号

    类型

    PC43-700

    0.6um-1.6um

    PC43-1500

    1.1um-3.2um

    PC43-6000

    5um-12.2um

  • *其它型号参数欢迎咨询











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